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专利详情
MIP系列多功能离子镀膜技术与设备
申请号：
申请公布号：
申请日：
申请公布日：
2017-01-17
申请（专利权）人：
BI360655579
专利代理机构：
分类号：
专利介绍
MIP系列多功能离子镀膜技术与设备是当代最新表面处理方法之一。采用低电压、大电流真空电弧技术和中频磁控溅射技术相结合的方法（物理气相沉积PVD技术），直接将阴极材料(被蒸镀材料)蒸发并离化,形成高度电离的等离子体束，这些高能粒子在工件偏压的作用下，沉积在工件表面上，生成各种金属薄膜（如铜、铝、钛等）。当通入反应气体，如N2或C2H2时，可以生成各种氮化物或碳化物薄膜 (如TiN
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